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      反射式膜厚測(cè)量?jī)x
      簡(jiǎn)要描述:

      反射式膜厚測(cè)量?jī)x是一款精準(zhǔn)又好用的薄膜厚度測(cè)量設(shè)備。它能測(cè)低至20納米的超薄薄膜,測(cè)量誤差小于1納米,最快每秒可測(cè)100次,重復(fù)測(cè)量精度高達(dá)0.05納米。它采用雙光源組合,覆蓋紫外到紅外全光譜,抗干擾能力強(qiáng),在振動(dòng)或復(fù)雜環(huán)境下也能穩(wěn)定工作。

      • 產(chǎn)品型號(hào):LJ-FT50UV
      • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
      • 更新時(shí)間:2026-03-12
      • 訪  問  量:41

      詳細(xì)介紹

      品牌藍(lán)景類型薄膜
      測(cè)量范圍約20nm~50μm(折射率1.5時(shí))電源電壓220V±20V50HzAC/V
      產(chǎn)地國(guó)產(chǎn)

      高精度不代表操作復(fù)雜。設(shè)備采用人性化交互界面,簡(jiǎn)化檢測(cè)流程,新手也能快速上手;支持?jǐn)?shù)據(jù)自動(dòng)存儲(chǔ)、導(dǎo)出、生成報(bào)表,滿足實(shí)驗(yàn)室管理與制程追溯需求。從實(shí)驗(yàn)室基礎(chǔ)研發(fā)到產(chǎn)線批量檢測(cè),從超薄納米膜到常規(guī)功能涂層,藍(lán)景反射膜厚儀以極-致精準(zhǔn)、穩(wěn)定耐用的表現(xiàn),為薄膜材料研發(fā)、工藝優(yōu)化、質(zhì)量管控提供全周期支撐,助力中國(guó)高-端制造向更高精度邁進(jìn)。

      一、產(chǎn)品簡(jiǎn)介

      反射式膜厚測(cè)量?jī)x是一款精準(zhǔn)又好用的薄膜厚度測(cè)量設(shè)備。它能測(cè)低至20納米的超薄薄膜,測(cè)量誤差小于1納米,最-快每秒可測(cè)100次,重復(fù)測(cè)量精度高達(dá)0.05納米。它采用雙光源組合,覆蓋紫外到紅外全光譜,抗干擾能力強(qiáng),在振動(dòng)或復(fù)雜環(huán)境下也能穩(wěn)定工作。

      二、應(yīng)用領(lǐng)域

      反射式膜厚測(cè)量?jī)x廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體與微電子制造、顯示面板、光學(xué)器件制造、生物醫(yī)學(xué)、汽車及新材料與新能源研發(fā)等領(lǐng)域,能滿足從晶圓鍍膜、顯示面板薄膜到光學(xué)元件鍍膜、醫(yī)-用植入物涂層、汽車玻璃膜層及新能源薄膜的高精度厚度檢測(cè)需求,助力各行業(yè)提升產(chǎn)品質(zhì)量與研發(fā)效率。

      三、測(cè)試原理

      反射膜厚儀基于白光干涉原理工作,光源發(fā)出的寬帶光入射至待測(cè)薄膜表面后,經(jīng)薄膜上下表面反射形成的兩束反射光會(huì)因光程差產(chǎn)生干涉,干涉信號(hào)中包含薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)等關(guān)鍵信息,設(shè)備通過探頭采集干涉后的反射光譜,對(duì)特定波段范圍內(nèi)的光譜進(jìn)行模型擬合后,即可反演解析出薄膜的厚度、光學(xué)常數(shù)及粗糙度等參數(shù),整個(gè)系統(tǒng)由高強(qiáng)度組合光源提供寬光譜入射光,經(jīng)光學(xué)系統(tǒng)傳輸至樣品,反射光返回后由高速光譜模塊采集信號(hào),最終通過上位機(jī)軟件完成數(shù)據(jù)處理與結(jié)果輸出。

      反射式膜厚測(cè)量?jī)x

      四、產(chǎn)品特點(diǎn)

      1. 精準(zhǔn)測(cè)量:支持20nm超薄膜厚檢測(cè),準(zhǔn)確度±1nm、重復(fù)精度0.05nm,滿足精密檢測(cè)需求;

      2. 高速采樣:最-高采樣速度100Hz,適配產(chǎn)線快速檢測(cè),提升測(cè)量效率;

      3. 寬光譜覆蓋:采用氘鹵組合光源,光譜覆蓋紫外至近紅外,可解析單層/多層膜厚;

      4. 強(qiáng)抗干擾性:高靈敏度元器件搭配抗干擾光學(xué)系統(tǒng)+多參數(shù)反演算法,復(fù)雜環(huán)境下測(cè)量穩(wěn)定;

      5. 靈活易適配:支持自定義膜結(jié)構(gòu)測(cè)量,設(shè)備小巧易安裝,配套軟件及二次開發(fā)包,適配實(shí)驗(yàn)室/產(chǎn)線多場(chǎng)景。



      五、技術(shù)參數(shù)

      型號(hào)LJ-FT50UVLJ-FT50NIR
      建議工作距離非聚焦光束,安裝距離5至10mm安裝側(cè)面出光附加鏡時(shí):34.5mm±2mm;
      軸向出光時(shí):55mm±2mm;
      測(cè)量角度±10°±5°
      光斑類型彌散光斑;在10mm安裝距離時(shí),光斑直徑約為4mm;聚焦光斑;約200μm
      探頭外徑*長(zhǎng)度Φ6.35*3200mm3Φ20*73mm
      探頭重量190g108g(探頭)、49g(附加鏡)
      光源類型氘鹵光源鹵素光源
      波長(zhǎng)范圍190-1100nm400-1100nm;1000-1700nm
      測(cè)厚范圍約20nm~50μm(折射率1.5時(shí))約50nm~50μm(折射率1.5時(shí))
      適配探頭UV-VISVIS-NIR軸向;
      VIS-NIR徑向;(標(biāo)配其一)
      可連探頭數(shù)量1
      探頭防護(hù)等級(jí)IP40
      重復(fù)精度0.05nm
      準(zhǔn)確度<±1nm或±0.3%(取較大值)
      采樣頻率Max.100Hz(視求解參數(shù)復(fù)雜度而定)
      測(cè)控軟件專用上位機(jī)軟件
      電源電壓220V±20V50HzAC/
      最-大功率50W
      工作溫度-10至+40℃
      相對(duì)濕度20%至85%RH(無冷凝)
      控制器重量約5000g






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