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      反射式光學膜厚儀
      簡要描述:

      反射式光學膜厚儀是一款精準又好用的薄膜厚度測量設備。它能測低至20納米的超薄薄膜,測量誤差小于1納米,最快每秒可測100次,重復測量精度高達0.05納米。它采用雙光源組合,覆蓋紫外到紅外全光譜,抗干擾能力強,在振動或復雜環境下也能穩定工作。

      • 產品型號:LJ-FT50UV
      • 廠商性質:生產廠家
      • 更新時間:2026-03-12
      • 訪  問  量:14

      詳細介紹

      品牌藍景類型薄膜
      測量范圍約20nm~50μm(折射率1.5時)電源電壓220V±20V50HzAC/V
      產地國產

      非接觸無損檢測是藍景反射膜厚儀的核心優勢之一。設備通過光學探頭發射光譜,接收膜層表面與界面的反射干涉信號,全程不接觸樣品表面,無機械壓力、無劃傷、無殘留,即使是超柔薄膜、微納結構、精密涂層、貴重樣品,也能放心檢測,大幅降低樣品損耗率,節約生產成本。這一特性使其廣泛應用于柔性屏、光學鏡片、醫-用涂層、微機電系統(MEMS)等對樣品完整性要求極-高的場景。

      一、產品簡介

      反射式光學膜厚儀是一款精準又好用的薄膜厚度測量設備。它能測低至20納米的超薄薄膜,測量誤差小于1納米,最-快每秒可測100次,重復測量精度高達0.05納米。它采用雙光源組合,覆蓋紫外到紅外全光譜,抗干擾能力強,在振動或復雜環境下也能穩定工作。

      二、應用領域

      反射式光學膜厚儀廣泛應用于半導體與微電子制造、顯示面板、光學器件制造、生物醫學、汽車及新材料與新能源研發等領域,能滿足從晶圓鍍膜、顯示面板薄膜到光學元件鍍膜、醫-用植入物涂層、汽車玻璃膜層及新能源薄膜的高精度厚度檢測需求,助力各行業提升產品質量與研發效率。

      三、測試原理

      反射膜厚儀基于白光干涉原理工作,光源發出的寬帶光入射至待測薄膜表面后,經薄膜上下表面反射形成的兩束反射光會因光程差產生干涉,干涉信號中包含薄膜厚度、光學常數等關鍵信息,設備通過探頭采集干涉后的反射光譜,對特定波段范圍內的光譜進行模型擬合后,即可反演解析出薄膜的厚度、光學常數及粗糙度等參數,整個系統由高強度組合光源提供寬光譜入射光,經光學系統傳輸至樣品,反射光返回后由高速光譜模塊采集信號,最終通過上位機軟件完成數據處理與結果輸出。

      反射式光學膜厚儀

      四、產品特點

      1. 精準測量:支持20nm超薄膜厚檢測,準確度±1nm、重復精度0.05nm,滿足精密檢測需求;

      2. 高速采樣:最-高采樣速度100Hz,適配產線快速檢測,提升測量效率;

      3. 寬光譜覆蓋:采用氘鹵組合光源,光譜覆蓋紫外至近紅外,可解析單層/多層膜厚;

      4. 強抗干擾性:高靈敏度元器件搭配抗干擾光學系統+多參數反演算法,復雜環境下測量穩定;

      5. 靈活易適配:支持自定義膜結構測量,設備小巧易安裝,配套軟件及二次開發包,適配實驗室/產線多場景。



      五、技術參數

      型號LJ-FT50UVLJ-FT50NIR
      建議工作距離非聚焦光束,安裝距離5至10mm安裝側面出光附加鏡時:34.5mm±2mm;
      軸向出光時:55mm±2mm;
      測量角度±10°±5°
      光斑類型彌散光斑;在10mm安裝距離時,光斑直徑約為4mm;聚焦光斑;約200μm
      探頭外徑*長度Φ6.35*3200mm3Φ20*73mm
      探頭重量190g108g(探頭)、49g(附加鏡)
      光源類型氘鹵光源鹵素光源
      波長范圍190-1100nm400-1100nm;1000-1700nm
      測厚范圍約20nm~50μm(折射率1.5時)約50nm~50μm(折射率1.5時)
      適配探頭UV-VISVIS-NIR軸向;
      VIS-NIR徑向;(標配其一)
      可連探頭數量1
      探頭防護等級IP40
      重復精度0.05nm
      準確度<±1nm或±0.3%(取較大值)
      采樣頻率Max.100Hz(視求解參數復雜度而定)
      測控軟件專用上位機軟件
      電源電壓220V±20V50HzAC/
      最-大功率50W
      工作溫度-10至+40℃
      相對濕度20%至85%RH(無冷凝)
      控制器重量約5000g








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